• Ultra-wysoka czystość konstrukcji: Wykorzystuje wykończenie powierzchniowe 10 Ra mikrocalowe / 0,25 mikrona w celu wyeliminowania zanieczyszczenia gazem, zapewniając zgodność z wymaganiami półprzewodników, farmaceutycznych i badawczych.
• Wysoka wrażliwość: Precyzyjne ustawienia umożliwiają precyzyjną regulację ciśnienia, kluczową dla zastosowań takich jak przyrządy analityczne i chromatografia gazowa.
• Niski spadek ciśnienia: Zmniejsza zużycie energii i zużycie systemu, zwiększając ogólną wydajność w procesach o dużym przepływie.
• Trwałość: Zbudowany z stali nierdzewnej 316L i opcjonalnie z wewnętrznymi zaworami Hastelloy® dla odporności na korozję w agresywnych warunkach.

• Obsługa ciśnienia: wejście do 3500 psig/241 bar; wyjście regulowane do 150 psig/10,3 bar.
• Odporność na wycieki: UL - niska wyciekłość (<10−7 mbar·L/s helu) dla gazów niebezpiecznych lub drogich.
• Zakres temperatury: -40°C do 71°C (-40°F do 160°F) z teflonowymi siedzeniami PFA.

• Produkcja półprzewodników: Dystrybucja gazu w pomieszczeniach czystej i wytwarzanie płytek.
• Sprzęt laboratoryjny: spektrometria masowa, systemy laserowe i analiza gazów.
• Obsługa gazu przemysłowego: szafki cylindrowe, skrzynki zaworne i specjalne zestawy gazowe.

• Różnorodność: Dostosowany do gazów żrących (np. NH3, Cl2) i mediów obojętnych z konfiguracją dostosowalną.
• Bezpieczeństwo: Konstrukcja statyczno-dissipatywna minimalizuje ryzyko zapłonu gazów piroforycznych.
• Zgodność: spełnia normy USP klasy VI, BPE i ISO 17025 dla procesów biofarmaceutycznych i analitycznych

64-3600 Odniesienie do próby produktu TESCOM z serii regulatorów wysokiej czułości