• Podtrzymanie podwójnego źródła wysokiego ciśnienia: Zapewnia ciągłe dostarczanie gazu o niskim przepływie w różnych warunkach, kluczowe dla zastosowań takich jak gaz nośny analizatora i rezonatory laserowe wymagające stabilnego gazu o wysokiej czystości.
• Projekt oszczędzający przestrzeń: konfiguracja na ścianie minimalizuje ślad bez uszczerbku dla funkcjonalności, idealnie nadaje się do laboratoriów, pomieszczeń produkcyjnych lub obiektów o ograniczonej powierzchni.
• Kontrola precyzyjna: Utrzymuje ścisłą czystość gazu i spójność przepływu, spełniając rygorystyczne normy przyrządów analitycznych i procesów przemysłowych.
• Różnorodność: obsługuje szeroki zakres gazów, w tym media korozyjne i obojętne, przy użyciu materiałów takich jak stal nierdzewna 316 i uszczelki Viton®/PCTFE zapewniające trwałość.

• Obsługa ciśnienia: Wspiera wysokie ciśnienie wejściowe z regulowanymi zakresami wyjściowymi (np. 020 bar/0290 psig).
• Odporność na wycieki: UL - niska wyciekłość (<10−7 mbar·L/s helu) dla bezpiecznej obsługi gazów niebezpiecznych.
• Modułowy projekt: Łatwa integracja z istniejącymi systemami za pośrednictwem standardowych połączeń (np. G 3/8, M 12×1).

• Laboratoria analityczne: Chromatografia gazowa, spektrometria masy.
• Produkcja przemysłowa: cięcie laserowe, wytwarzanie płyt półprzewodnikowych.
• Energetyka i środowisko: ogniwa paliwowe wodorowe, systemy wychwytywania CO2.

• Niezawodność: Redundantna operacja z dwoma źródłami zapobiega przestojom.
• Bezpieczeństwo: Konstrukcja statycznie rozpraszająca i zgodność z normami ISO 17025, USP klasy VI i BPE.
• Łatwość użycia: Intuicyjne sterowanie i szybka konserwacja zmniejszają złożoność operacyjną.

specyfikacje

Próbka do wyboru regulatora napięcia serii CR441800